快科技 5 月 25 日消息,據(jù)國外媒體報道稱,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。
俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里 - 什帕克指出,該設備可確保生產(chǎn) 350nm 的芯片。
在俄羅斯看來,盡管 350nm 的芯片技術相較之下顯得落后,但它在汽車、能源和電信等諸多行業(yè)中仍有著應用價值。
這意味著,俄羅斯在自主發(fā)展半導體技術的道路上取得了突破,有望減少對外部技術的依賴,提升國內產(chǎn)業(yè)的自主性和競爭力。
之前俄羅斯已經(jīng)表示,計劃到 2026 年實現(xiàn) 65nm 的芯片節(jié)點工藝,2027 年實現(xiàn) 28nm 本土芯片制造,到 2030 年實現(xiàn) 14nm 國產(chǎn)芯片制造。
要知道,俄羅斯大諾夫哥羅德策略發(fā)展機構早已表示,旗下應用物理研究所將會跌破所有人眼鏡,在 2028 年開發(fā)出可以生產(chǎn) 7 納米芯片的光刻機,還可擊敗 ASML 同類產(chǎn)品。

上一篇: 浙江江山發(fā)現(xiàn)新物種須女景天:3月發(fā)芽、5月開花、7月枯萎
【相關文章】